Назначение
Установка измерений критических размеров элементов фотошаблонов MueTec 2010UV (далее - Установка) предназначена для измерений критических размеров элементов на фотошаблонах (CD-измерения).
Описание
Принцип действия Установки основан на оптическом измерении ширины линий на фотошаблонах. Установка представляет собой измерительно-вычислительный комплекс, в состав которого входит измерительная система и контроллер управления ПЭВМ.
Перед проведением измерений с помощью специальной калибровочной меры (фотошаблона) в Установке формируется информация о калибровочных поправках при измерениях критических размеров элементов топологии шаблонов, что позволяет исключить систематическую погрешность измерений.
Конструктивно контроллер управления выполнен в виде шкафа на котором расположены органы управления. Внешний вид Установки приведен на рисунке 1.
Программное обеспечение
Программное обеспечение (ПО) Установки является специализированным ПО и представляет собой программный продукт управления пользователя с набором микрокоманд Dialog C Compiler (N418_54j2.exe, версия 5.0.6.0; диалоговое окно «NanoStar»).
ПО Dialog C Compiler (диалоговое окно «NanoStar») предназначено для управления Установкой и не может быть использовано отдельно от установки.
Влияние метрологически значимой части ПО Dialog C Compiler на метрологические характеристики У становки не выходит за пределы согласованного допуска.
Идентификационные данные (признаки) метрологически значимой части ПО Dialog C Compiler указаны в таблице 1.
Таблица 1
Наименование ПО | Идентификационное наименование ПО | Номер версии (идентификационный номер) ПО | Цифровой идентификатор ПО (контрольная сумма исполняемого кода) | Алгоритм вычисления иден-тифика-тора ПО |
Управляющая программа пользователя с набором микрокоманд «NanoStar» | Dialog C Compiler | 5.0.6.0 | 701a88b3bbe3db0c 280c41defcfb9150 6f4acf12d007eeb3f 620040e083a063f | ГОСТ Р 34.11-94 |
Метрологически значимая часть ПО Установки и измеренные данные достаточно защищены с помощью специальных средств защиты от преднамеренных изменений. Уровень защиты ПО Установки Dialog C Compiler (N418_54j2.exe, версия 5.0.6.0; диалоговое окно «NanoStar») соответствует уровню «Средний» в соответствии с п. 4.5 рекомендации Р 50.2.077-2014.
Технические характеристики
Основные метрологические и технические характеристики Установки приведены в таблице 2.
Таблица 2
Наименование характеристики | Значение характеристики |
Диапазон измерений критических размеров элементов фотошаблона, мкм: - в режиме «Видимое излучение» - в режиме «У Ф-излучение» | от 0,8 до 100,0 от 0,5 до 100,0 |
Среднеквадратическое значение погрешности измерений критических размеров элементов фотошаблона*, нм - в режиме «Видимое излучение» - в режиме «У Ф-излучение» | 4 3 |
Минимальный размер элемента измеряемой изолированной линии фотошаблона, мкм: - в режиме «Видимое излучение» - в режиме «У Ф-излучение» | 0,8 0,5 |
Г абаритные типоразмеры (длина х ширина ^толщина) измеряемых фотошаблонов, мм | 152,4x152,4x6,35 127,0x127,0x3,05 127,0x127,0x2,30 |
Наименование характеристики | Значение характеристики |
Область перемещения координатного стола измерительной платформы (X*Y), мм: - для фотошаблона 152,4*152,4*6,35 - для фотошаблона 127,0*127,0*3,05 - для фотошаблона 127,0*127,0*2,30 | 150*150 150*150 125*125 |
Г абаритные размеры установки (ширина * глубина * высота), мм | 1500*1200*1800 |
Масса, кг | 602 |
Напряжение питания частотой 50 Гц, В | 220 ± 22 |
Потребляемая мощность, кВ • А, не более | 1,6 |
Рабочий диапазон температуры, °С | от 18 до 25 |
Относительная влажность воздуха при температуре 18 - 25 °С, %, не более | 75 |
Рабочее давление воздуха, гПа | 5500± 500 |
Вакуум централизованный, гПа | минус 950 ± 50 |
* Среднеквадратическое значение погрешности измерений критических размеров элементов фотошаблона нормируется в диапазоне от 0,8 до 8 мкм.
Знак утверждения типа
наносится на лицевую панель Установки в виде наклейки и на титульный лист эксплуатационной документации типографским способом.
Комплектность
Комплект поставки включает:
- Установка измерений критических размеров элементов фотошаблонов MueTec 2010UV - 1 комплект;
- комплект эксплуатационной документации (Установка измерений критических размеров элементов фотошаблонов MueTec 2010UV. Руководство по эксплуатации) - 1 комплект;
- методика поверки - 1 шт.
Поверка
осуществляется по документу МП 63454-16 «Инструкция. Установка измерений критических размеров элементов фотошаблонов MueTec 2010UV. Методика поверки», утвержденному руководителем ГЦИ СИ АО «НИЦПВ» 19.06.2015 г.
Основные средства поверки:
- набор мер (фотошаблонов) критических линейных размеров элементов фотошаблонов (№ Госреестра 60717-15).
Сведения о методах измерений
Установка измерений критических размеров элементов фотошаблонов MueTec 2010UV. Руководство по эксплуатации.
Нормативные и технические документы, устанавливающие требования к установке измерений критических размеров элементов фотошаблонов MueTec 2010UV
Техническая документация фирмы-изготовителя.